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蝕刻工藝在顯示面板的應(yīng)用 發(fā)表時(shí)間：2025-04-14

從LCD到Micro LED，顯示技術(shù)的升級(jí)始終依賴蝕刻工藝對(duì)材料的極致掌控。

TFT背板的圖形化
薄膜晶體管（TFT）制造需7-10次蝕刻步驟：

  1. 金屬層蝕刻：Mo/Al/Mo疊層用磷酸/硝酸/醋酸混合液濕法刻蝕，確保電極導(dǎo)通電性。

  2. 半導(dǎo)體層蝕刻：a-Si或IGZO采用干法蝕刻，保護(hù)層界面免受等離子體損傷。

OLED像素精確分割
OLED發(fā)光層的精細(xì)隔離需使用陰影掩膜（FMM），但其精度受限。最新激光蝕刻技術(shù)可直接在有機(jī)材料上加工5微米寬像素，提升屏幕分辨率至3000 PPI。

柔性屏的蝕刻革新
聚酰亞胺（PI）基板上的銅電路通過卷對(duì)卷蝕刻工藝生產(chǎn)，采用FeCl?溶液實(shí)現(xiàn)20微米線寬，彎曲次數(shù)超10萬次無斷裂。